Hinomoto日之本 CMP实验装置
MEMS 专用手动 CMP 实验设备，载波轴独立可调，加工工件尺寸 3‑6 英寸，布局紧凑。

Hinomoto日之本 CMP实验装置

Hinomoto日之本 CMP实验装置

MEMS CMP System 是面向 MEMS 工艺开发的手动式 CMP 实验装置，专门针对 MEMS 器件的抛光工艺特点开发，满足 MEMS 产品研发阶段的各类抛光实验需求。设备每一根载波轴均为独立结构，每根轴都能够单独设置工艺参数，支持多组不同实验条件同步开展，大幅提升研发实验效率。整机布局设计十分紧凑，不会占用过多实验室空间，虽然机身小巧，但完整搭载 CMP 实验所需全部核心功能，无需额外添置配件即可开展完整抛光实验。工件可加工尺寸覆盖 φ3 英寸‑φ6 英寸，能够适配 MEMS 行业主流规格的晶圆试样。MEMS 器件对于晶圆表面平整度、膜层一致性要求严苛，该设备可以针对 MEMS 工艺做针对性参数调试，便于工程师研究不同压力、转速、抛光耗材对器件表面的影响。独立轴体设计，方便做对照试验，快速筛选出工艺方案。设备适合科研机构、企业研发部门做 MEMS 相关工艺摸索、耗材评估、小试样打样。设备结构稳定，参数调节直观，实验数据重复性好，能够有效支撑 MEMS 器件前期研发工作。整机兼顾功能完整性与空间利用率，是 MEMS 领域 CMP 工艺验证的专用实验设备。