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随着多重曝光技术的发展以及电路的狭窄和复杂化,掩膜上的遮罩数量和测量点数量不断增加,因此有必要以高精度和稳定性测量和评估光罩上形成的布线图案尺寸。 我们的“E3600系列"满足设备的需求,具备高度的测量重复性和稳定的吞吐量。
“E3650"采用专有的电子束扫描技术,以更高的精度和稳定性测量光罩的细密图案尺寸。 作为我们广泛支持的“E3600系列"最新型号,作为光罩扫描电子显微镜市场中的最新型号,测量吞吐量比之前的“E3640"提升了一倍。 它实现了高通量,以适应因多重曝光导致的掩膜数量增加以及图案化复杂性导致测量点增加的情况。
除了光罩外,它还在测量极紫外光罩和纳米印记主模板方面表现出色。