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随着半导体的微型化,对晶圆和光罩上形成的线路图案尺寸测量和评估的高度准确且稳定的需求日益增长。 E3600 该系列被半导体制造商、光掩膜制造商以及设备和材料制造商广泛采用。
“E3640"是一款MVM-SEM,能够高精度测量掩模和图案介质中的细微图案尺寸。 作为我们广泛支持的“E3600系列"中最新的掩膜SEM市场型号,它显著提升了测量的可重复性和通量,并支持1Xnm节点工艺,预计该工艺将在未来大规模生产中被广泛采用。 除了目前主导半导体光刻的光掩膜外,它还可用于极紫外掩膜和近极光离子模板。