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2026-07-15更新时间:2026-07-22
免费咨询:15510016038.
OTSUKA大塚电子光谱椭圆仪
OTSUKA大塚电子光谱椭圆仪
能够测量紫外可见光(300~800nm)波长范围内的椭圆参数。
支持对纳米级多层薄膜的薄膜厚度分析
通过多通道光谱法对400多个通道的埃利普索光谱进行快速测量
支持通过可变反射角测量对薄膜进行详细分析。
通过添加光学常数数据库和配方注册功能提升操作性
椭圆参数(tanψ, cosΔ)测量
光学常数分析(n:折射率,K:衰减系数)
薄膜厚度分析
半导体晶圆:
栅氧化层薄膜、氮化物薄膜SiO
2,SixO y,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy聚硅、ZnSe、BPSG、TiN
电阻的光学常数(波长色散)
化合物半导体
x加(1-x)作为多层薄膜,非晶硅
FPD
对准膜
各种新材料:
DLC(类碳金刚石)、超导薄膜、磁头薄膜
光学薄膜
TiO2,SiO2,防反射膜
光刻场:每个波长如
g线(436nm)、h线(405nm)、i线(365nm)等各波长的n、k值
将线偏振(包括S波和p波)注入样品,测量反射光的椭圆偏振。 S波和p波的相位和振幅独立变化,从而决定p波与s波反射率的比例tanψ,以及相位差δ,这些是两种偏振方式的转换参数,具体取决于样品。

tanψ和consΔ称为椭圆参数,光谱椭偏测量测量这两个参数的波长相关光谱。