日本Photonic台式线扫描双折射测绘系统
台式线扫描双折射测绘系统 KAMAKIRI‑X‑Stage，离线取样检测，算法与产线机型同源，可升级为在线 STS‑LS 设备。

日本Photonic台式线扫描双折射测绘系统

日本Photonic台式线扫描双折射测绘系统

KAMAKIRI‑X‑Stage 属于 KAMAKIRI 系列台式离线扫描设备，采用线扫描成像方式，核心算法与产线用 STS‑LS 同源，测试数据可与产线设备对标，适合实验室取样评测、产线导入前工艺验证，设备后期可改造升级成全幅在线 STS‑LS 机型，降低前期设备投入风险入江株式会...。

设备标准测量波长 543nm，相位差测量范围 0‑260nm，相位差重复精度优于 ±1nm，快慢轴方位角测量 0‑180°，方位角重复精度优于 ±1°。标准载台适配 A4 尺寸样品，可定制大行程载台，最大支持 1.5m 幅宽薄膜，扫描一张 1.5m 宽度样品大约耗时 5 分钟，输出相位差、快慢轴方位角完整二维分布云图，可识别薄膜相位差条纹、局部应力斑点、拉伸取向不均等缺陷，还原样品横向 TD 方向完整分布趋势。设备体积紧凑，放置于实验室台面即可使用，无需复杂基建。

设备操作简单，裁切好的样品平铺放置在移动载台，载台自动完成扫描，无需人工反复调整光路。既用于研发阶段样品评测，也可作为量产产线的离线抽检设备，实现与在线设备一致的评判标准。输出可视化彩色应力云图，直观展示薄膜全域取向分布，同时输出幅宽方向变化曲线，为工艺研发提供完整量化检测依据。

多用于 TAC、COP、PI、PET、PVA 相位差薄膜、光学基板、显示基材等样品。可开展实验室取样品质评估、拉伸与涂布工艺验证、新材料开发评测、产线设备导入前期对标验证。依靠扫描得到的全域相位差数据，技术人员优化拉伸、热定型等工艺，改善薄膜取向不均带来的色偏、显示对比度下降等不良问题。

配套 KAMAKIRI 基础分析软件，支持相位差与方位角数据查看、多组样品比对、检测报告生成归档，方便实验数据留存管理。设备兼顾离线扫描能力与可升级拓展能力，是产线在线设备导入前，高性价比的离线双折射评估解决方案。