日本Photonic 紧凑型单点高速椭偏仪
紧凑型单点高速椭偏仪 SE‑101，636nm 激光，单点高速测量膜厚折射率，测头可拆卸，支持设备集成 OEM 改造

日本Photonic 紧凑型单点高速椭偏仪

日本Photonic 紧凑型单点高速椭偏仪

SE‑101 紧凑型单点高速椭偏仪，属于 SE 系列单点式椭偏检测设备，采用光子晶体 PCA 偏振探测技术，无需旋转光学元件，实现高速单点膜厚、折射率测量，测头单元可分离拆卸，兼顾实验室离线测试与产线设备集成场景。

设备采用 636nm 半导体激光光源，标准入射角 70°，光斑尺寸约 1mm。单点测量最小采样间隔 0.05 秒，最高 70fps 高速采集，可捕捉薄膜成膜过程膜厚随时间动态变化。膜厚重复精度可达 0.1nm，折射率重复精度 0.001。样品台最大支持 4 英寸试样，可选配手动 XY 移动载台。测头本体重量约 5kg，接口为 GigE，标配 SDK 开发包，支持二次开发，可嵌入镀膜设备、试验机，实现原位在线监测。

整机台式小型化结构，调试简单，既可以作为完整设备独立使用，也可以只将测头单元集成到其他试验系统。设备支持时序连续采集，实时输出膜厚、折射率数值，可记录镀膜、热处理过程中薄膜光学参数随时间变化，为动态薄膜机理研究提供时序量化数据。

多用于半导体氧化膜、光学镀膜、高分子薄膜、显示基材等样品。可开展薄膜单点膜厚折射率评测、成膜过程原位动态监测、新材料光学常数测定。依靠高速采集的椭偏数据，研发人员优化镀膜、热处理工艺，改善膜层厚度波动、光学性能偏移等问题。

配套 SE 系列基础分析软件，支持时序曲线查看、多组样品数据比对、检测报告生成归档，方便试验数据留存管理。设备兼顾单点高速检测能力与灵活集成能力，为薄膜单点及原位动态椭偏检测，提供小巧高效的解决方案。