ULVAC爱发科差动排气工艺监测器
配置差动排气系统的反应性工艺气体监测器，面向蚀刻、CVD 等半导体工艺开发，承袭 Qulee 系列核心技术，依托 Albac 特殊离子源与排气系统结构，对各类反应性腐蚀气体具备很强耐受力，保障设备长期稳定开展测量作业

ULVAC爱发科差动排气工艺监测器

ULVAC爱发科差动排气工艺监测器

Qulee RGM2‑302 是配置差动排气系统的反应性工艺气体监测器，面向蚀刻、CVD 等半导体工艺开发，承袭 Qulee 系列核心技术，依托 Albac 特殊离子源与排气系统结构，对各类反应性腐蚀气体具备很强耐受力，保障设备长期稳定开展测量作业。

半导体蚀刻、CVD 工艺运行期间会生成大量活性腐蚀性气体，这类气体很容易侵蚀气体分析仪内部的离子源、灯丝等核心零件，造成检测数据偏移、设备故障频发，严重干扰生产进度。RGM2‑302 的差动排气架构，能够高效疏导腐蚀性工艺气体，降低核心检测单元接触有害气体，延缓部件损耗，减少维护频次，适配工厂长时间连续量产工况。

该设备可完成多项工艺管控工作：腔体清洁终点判断、真空系统漏点排查、腔体内部水汽与杂质气体分析。设备实时采集真空腔体内部气体分压与组分信息，及时发现微量漏气、残留杂质等隐性问题，帮助技术人员及时调整工艺参数，减少次品产生，提升整体生产效率。

设备可直接对接蚀刻、CVD 等工艺设备，实时采集工艺过程气体数据。配套专业气体分析软件，支持数据存储、趋势曲线查看，方便工作人员回溯工艺全过程，定位各类异常问题。同时支持对接工厂自动化控制系统，设置报警阈值，一旦气体成分出现异常，自动触发提醒，实现自动化工艺监控。

该机型兼顾工业量产与研发测试需求。工厂产线可以依靠它实现 24 小时不间断在线监测；实验室场景下，也可以用来做工艺条件探索、材料出气特性评估。面对严苛的真空工艺环境，在保证检测精度的同时，提升设备抗腐蚀能力，平衡性能与运维成本。在化学气相沉积、干法蚀刻等半导体关键工序中，持续监控腔体内气氛，保障工艺一致性，助力产品良率提升。