ULVAC爱发科反应过程气体监视器
适配 CVD / 蚀刻 / ALD，差动排气，耐反应气体，获日本真空工业协会大奖。

ULVAC爱发科反应过程气体监视器

ULVAC爱发科反应过程气体监视器

Qulee RGM2‑201F 是面向 CVD、蚀刻、ALD 工艺的反应式过程气体监测器，斩获 2023 年日本真空工业协会 “真空部件大奖"，专为处理腐蚀性、反应性工艺气体而开发。设备搭载差动排气系统，依托 Albac 专属离子源与排气系统结构，面对各类活性反应气体，具备优异抗腐蚀能力，能够实现长时间不间断稳定测量，适配严苛半导体产线工况。

该仪器可用于工艺终点判定、腔体清洁过程监测，同时完成泄漏检测、残留水汽以及各类杂质气体成分分析，帮助工程师快速定位工艺异常，减少不良品产出，提升整体产能效率。很多普通残余气体分析仪遇到蚀刻、ALD 这类强反应气体，离子源与内部管路容易被腐蚀损耗，缩短设备寿命，而 RGM2‑201F 通过优化气路排气设计，把腐蚀性反应气体快速排走，降低核心检测部件接触侵蚀性气体的时长，大幅延长离子源、灯丝等关键耗材使用寿命，减少产线停机维护频次。

仪器专为量产产线设计，不局限实验室研发使用。它可以直接对接 CVD、蚀刻、ALD 生产设备，实时采集腔体内气体分压、组分变化数据。操作人员能够实时观察工艺过程气体演变，捕捉微量杂质泄露、水汽残留等问题，提前预警腔体异常。配套气体分析软件，支持数据记录、曲线回看，方便做工艺复盘与问题溯源。同时支持工业通讯对接工厂自动化控制系统，实现超限自动报警。

整机兼顾检测精度与工业实用性，既满足研发阶段对气体组分精细分析，也扛得住工厂 7×24 小时连续生产运行。在 ALD 薄膜沉积、半导体蚀刻、化学气相沉积等工艺中，实时监控气氛状态，为工艺稳定性与产品良率提供可靠的数据保障。