ULVAC爱发科差动排气工艺监测器
差动排气工艺监测器，适配蚀刻 CVD，特殊结构耐腐蚀性气体长期测量。

ULVAC爱发科差动排气工艺监测器

ULVAC爱发科差动排气工艺监测器

Qulee RGM2‑202 属于带差动排气系统的反应性工艺气体监测器，针对蚀刻、CVD、ALD 等会产生强反应气体的真空制程打造，采用 Qulee 系列核心技术架构。依靠 Albac 独特离子源与排气系统结构，设备对反应性腐蚀气体拥有出色耐受能力，可实现长时间连续稳定测量，解决传统气体分析仪易被工艺气体腐蚀损坏的行业痛点。

在半导体制造流程中，蚀刻、CVD 工艺会大量释放活性、腐蚀性气体，普通气体监测设备内部组件极易被侵蚀，会出现数据漂移、部件快速损耗、频繁停机更换配件的问题。RGM2‑202 的差动排气结构，能够快速将腐蚀性工艺气体疏导排出，减少检测核心部件和有害气体接触，有效保护离子源、灯丝等贵重部件，降低耗材更换成本，缩短产线停机维护时间，适配大批量工业化生产场景。

设备应用场景十分广泛，可执行腔体清洁终点监测、系统检漏、水汽和杂质气体检测等工作。生产过程中实时捕捉真空腔内部气体组分变化，快速识别漏气、残留杂质、工艺反应异常等状况。工程师可以依靠实时监测数据判断工艺节点，优化腔体清洁周期，减少无效生产时间，提升产能与成品良率。

仪器支持对接各类半导体工艺设备，采集的气体分压、组分数据可完整记录存储。配套分析软件可以调取历史趋势曲线，方便开展工艺复盘，分析故障根源。同时兼容工厂自动化通讯，可接入产线控制系统，设置阈值触发自动报警，实现数字化工艺管控。

不管是产线大规模量产，还是实验室开展工艺研发，RGM2‑202 都可以输出稳定可靠的检测结果。在薄膜沉积、干法蚀刻等工艺环节，持续监控腔体内气氛环境，为真空工艺的稳定运行提供坚实的数据支撑。