VAT真空蝶式调压阀(61.3 系列)61328-KAAE-0001
专为高真空下游压力控制设计,适用于 CVD、ALD 等苛刻工艺,兼具快速响应、精准调节与高可靠性。
一、VAT真空蝶式调压阀基本规格参数
- 商品编号 61328-KAAE-0001
- 尺寸:DN 25(1")
- 法兰标准:ISO-KF
- 阀体材料:铝
- 密封材质 : FKM
- 驱动器:步进电机,集成控制器接口 + 传感器(逻辑 A/D / 2 个传感器)
- 控制器配置:SPS(可编程逻辑控制)
- 重量:2.2 kg / 4.85 lbs
二、压力与电导率性能
- 压力范围:1 × 10⁻⁸ mbar ~ 1.2 bar(abs)
- 闸门允许压差:≤ 1 bar
- 典型关闭/开启时间 : 90 ms
- 最大电导率(N₂ 分子流):22 L/s
- 最小可控电导率(N₂ 分子流):0.15 L/s
- 泄漏率(阀体密封):1 × 10⁻⁹ L/s
三、温度与耐用性
- 阀体最高温度:≤ 150 °C
- 初次维修前循环次数:2,000,000 次
四、产品特点与优势
- 快速精准的下游压力控制
集成压力控制器可在 0.1 秒内快速计算并调整阀板位置,实现设定压力的逼近,特别适用于精细控制的 CVD / ALD 工艺。
- 优异的抗污染能力
阀板作为节流元件,通过改变开度调节流导。针对气流中含粒子或碎屑沉积的恶劣下游工艺进行优化,即使在高粒子载荷下仍保持正常运行。
- 久经考验的可靠性
该系列已成功应用于数千个严苛工艺现场,坚固的设计、直接安装选项以及简便的维护流程,保障长期稳定运行。
- 灵活的定制选项
可提供多种阀体材料、表面处理、弹性体、法兰连接形式、特殊尺寸,以及自适应 / 固定 PI 下游 / 软抽等特殊控制算法,方便适配不同真空应用需求。
五、典型应用领域
- 化学气相沉积(CVD)
- 原子层沉积(ALD)
- 高真空镀膜
- 半导体制造
- 科研真空系统