免试剂检测！APPLICS 臭氧计靠什么实现精准读数？

APPLICS 紫外系列臭氧计（NOL‑UW 水中、OZG‑3500 气体）属于免化学试剂、无电解液的检测方案，不靠化学反应显色，依靠紫外分子吸收的物理特性完成浓度测算，是半导体超纯水、工艺尾气的主流工艺监测方案。

一、底层核心：253.7nm 紫外吸收，朗伯‑比尔定律

臭氧分子对253.7nm 紫外线存在的特征吸收，氧气、纯水、pH 变化、微量余氯在此波长几乎不产生吸收干扰。

1. 仪器低压汞光源输出稳定 253.7nm 单色紫外光；

2. 紫外光穿过样品流通池（水样 / 样气），臭氧分子会吸收一部分紫外光子；

3. 光电传感器检测透射过后剩余光强；

4. 根据朗伯‑比尔定律：光衰减程度和臭氧浓度成正比，主控芯片换算出实时臭氧浓度。

关键点：属于物理检测，不消耗臭氧、不需要添加靛蓝等化学显色药剂，也不需要电化学电解液，因此叫免试剂检测。

二、水中溶解臭氧 NOL‑UW：直管式液相直测结构

市面上很多水中臭氧仪器，需要把水吹脱萃取成气体再检测，容易带来气泡、分解损耗误差。APPLICS NOL‑UW 采用直管流通池，液相直接测量，水样直接流过石英光路，不需要气液萃取转换。

1. 耐臭氧 PTFE / 石英光路组件，抗氧化，适配半导体 UPW 超纯水，低析出；

2. 流道做流体优化，抑制气泡附着镜片，气泡会造成紫外光散射、读数跳变；

3. 内置温度传感器做算法补偿：水温改变，紫外吸收系数会发生偏移，仪器实时修正，消除温度带来的偏差。

三、气体机型 OZG‑3500：泵吸式紫外检测

1. 内置恒流取样泵，稳定控制样气流量，流量波动会直接改变光程内分子数量，造成读数漂移；

2. 窄带滤光片，只保留 253.7nm，过滤掉其他杂波长光；

3. 内置零点涤气组件，可周期性自动校零，抵消光源老化、镜片轻微脏污带来基线漂移。

四、保障长期精准的多重设计

1. 抗交叉干扰不同于电化学传感器，氯气、二氧化氮等氧化性气体，几乎不会在 253.7nm 产生吸收，大幅降低工艺现场气体干扰，适合半导体复杂工况。

2. 光源衰减补偿紫外汞灯随运行时长光强会缓慢衰减，仪器实时采集入射光基准信号，对比透射光，抵消光源老化带来的系统误差，不会直接造成读数失真。

3. 硬件故障告警光源异常、流量异常、光路透光变差，仪器输出故障报警，避免仪器失效还继续输出虚假数据，满足 Fab 工艺联锁要求。

五、客观边界（免试剂不等于零维护）

1. 紫外光源属于消耗件，到达寿命光强下降，需要计划性更换；

2. 流通池石英窗口，长期运行会附着微量水垢、有机物，需要定期清洗，污垢遮挡紫外光，读数会偏低；

3. 水样不能含有大量悬浮颗粒，颗粒遮挡光路，带来测量偏差；

4. 虽然不用化学试剂，但依旧需要定期标准样校准，锁定测量精度。

六、对比电化学方案

• 紫外 APPLICS：免试剂、抗干扰，适合工艺闭环控制；存在光源、镜片维护。

• 电化学机型：需要电解液 / 渗透膜，膜会老化损耗，易受共存气体干扰，仅适合安全泄漏报警，不建议半导体工艺联锁。

简短总结

APPLICS 免试剂臭氧计核心三点：①利用臭氧 253.7nm 特征紫外吸收，朗伯‑比尔定律计算浓度，纯物理检测，不用化学药剂；②NOL‑UW 直管液相直测，不用气液萃取，搭配温度补偿；③滤光、流量控制、光源基准补偿，抑制干扰，保障在线长期精准读数。